시네마포디 공부하고 있는 초급 유저입니다. 시네마포디 시작하기 전에 지브러시를 조금 익혀놔서 보통 기본 모델링을 지브러시로 만들고 obj로 시네마포디에서 불러들여 수정과 배치 메테리얼을 조정해서 완성 합니다. 하지만 지브러시가 하이퍼넙스 방식이라 너무 많은 폴리곤을 만듭니다. 이번에 r14 동영상에서 신기능 소개로 모델링 하는 장면을 찍어서 보여주고 있어요. 기본 하이폴리곤 개체 위에 리토포로 로우폴리곤 개체를 만들고 하이폴리곤을 맵으로 불러들여 로우폴리곤 위에 입혀서 로우폴리곤 개체를 렌더시에 하이폴리곤 개체처럼 렌더가 되더라고요. 맨날 하이폴리곤에서 컴퓨터 버벅거리면서 작업을 하다가 로우폴리곤 방식이 나오니 반갑기는 하지만 영상을 보고서 몬 소린지 알아먹을 수가 없었어요. 하이폴리곤 개체를 맵으로 쓰는 방식과 리토포 하는 방식을 차례대로 자세하게 설명을 글로 적어주시는 분이 계셨으면 좋겠어요.
http://www.youtube.com/watch?v=WOqfYMUEQso 여기 영상에서 나오는 기능이고요. 첨부된 사진이 영상에서 보여주는 리토포와 하이폴리곤을 로우폴리곤에 맵으로 적용시켜 렌더시 컴퓨터가 버벅거리지 않게 해주는 부분이에요. 시네마포디를 시작한지 얼마 안되어서 많은 기능들을 알지 못합니다. 리토포 기능은 메뉴를 찾아봐도 안 나오고 하이폴리곤을 맵으로 적용하는것은 영상을 계속 반복해서 봐도 시작을 못하겠어요.
여기있는 질문들을 찾아봤는데 지금 올리는 기능은 없는 것 같아 질문을 올립니다.
제가 설명을 잘 못해서 이 글만으로 이해하실지 모르겠네요. 링크의 영상과 첨부된 사진을 보시면 어떤 기능인지 아실거에요. 영상은 3분 20초 이전 내용은 스컬핑 하는 방식으로 보실 필요는 없으세요.
사진은 확장 컴포넌트로 올라가지 않아 첨부파일로 올립니다. 영상은 용량이 커서 첨부로 올라가지 않아 링크만 남깁니다.
이 기능의 자세한 과정을 아시면 과정을 글로 설명 부탁 드릴께요.
감사합니다^^
하이퍼넙스적용시 폴리곤모양이 이상하네요.
RE토폴로지가 쓰는 용어 구요. Topology(토폴로지) 란 폴리곤의 상태를 말하는 거구요.
그래서 다시 폴리곤을 정리 한다는 개념 입니다.
과정은 전체적으로
베이스가될 High 를 만들고 그 위에 근사 평면을 가지는 Row 를 만들게 됩니다.
그 방법은 여러가지가 있는데
결국에는 이 둘사이의 수식어 같은 존재의 기능들일 뿐입니다.
1. 하이 모델을 만들고 이것에서 리토폴로지를 해서 로우를 만든다.
2. 그럼 이 둘은 비슷한 형태지만 적은 폴리곤을 가지게 된다.
3. 그리고 나서 하이 기준에서 디스플레이스 먼트 또는 노멀 맵을 뽑아서 로우에 타겟 하게 된다.
## 중요한점은 이 앞과 뒷 과정 사이의 결과물이 둘 사이의 토 폴로지 상황이 최대한 비슷해야 한다는 점입니다.
이 둘이 끝입니다. 하이 -> 로우로 (노말 또는 디스 플레이스먼트)
나머지는 앞에서 말했다 시피 그 과정을 어떻게 거쳐 가느냐일 뿐입니다.
사람마다 다른 거지요.
이 영상에서는 자기가 만든 스크립트를 쓰고 있구요.
R12 버젼 때부터 봤던거 같은데 전문 모델러 인지 스크립트 잘 짜놨 더라구요.
잘 쓰시고 좋으면 단돈 10달러 라도 기부 좀 해주세요.
물론 꽁짜로 다운 받게 해놨지만 단돈 만원으로 30~50시간 넘게 걸릴 스크립트 짜는 걸
한시간 시급 정도 만으로 쓸수 있다고 생각 하시면 되요.
같은 방식으로 하시려면 http://www.holgerbiebrach.com/?page_id=28
이곳에 가셔서 받아서 하시면 되요.
하지만 어짜피 전체적인 맥락은 같습니다.
위에 스크립트를 써서 하려면 또 배워야 하니 골치 아프니까 그냥
저거 없이 할 수 있는 방법을 알려 드릴게요.
1. 하이레스로 쓸 모델을 열심히 만들어 줍니다. (스컬프 레벨 4~5 이상 올라 가겠죠.)
2. 그 다음 리 토폴로지를 하기 위해서 하이를 써도 되지만 너무 복잡하니 스컬프 레벨을 전부 2단계로 낮춰 줍니다.
3. 낮춘 놈을 Current state to object 를 사용해서 복제를 합니다.
현재 오브젝트 상태
1.스컬프 원본
2. 2레벨로 낮춰서 복제한 폴리곤 하나
4. 복제한 놈을 가지고 토폴로지를 할것 입니다.
5. 토폴로지를 하기 위해서 몇가지 셋팅을 해줍니다. 스냅을 키시고 폴리곤에 스냅 하게 켜줍니다.
6. 폴리곤 생성 툴로 일단 한바퀴만 굴려서 폴리곤을 만들어 줍니다.
현재 상태
1. 스컬프 원본
2. 2레벨
3. 리 토폴로지 하고 있는 한바퀴 돌린 폴리곤
7. 그 다음 스냅을 좀 더 원활하게 도와 주기 위해서 위의 3번 폴리곤에
Shrink Wrap 디포머를 하이어라키 해줍니다.
Shrink Wrap 디포머는 소스 오브젝트에 근사하게 디포밍 해준다고 보면 됩니다.
그러므로 당연히 소스에 다가는 레벨 2 놈을 넣어 놔야 겠지요?
그럼 대강 찍어도 알아서 가장 가까운 레벨2의 메쉬에 달라 붙습니다.
8. 열심히 리 토폴로지를 해줍니다.
9. 로우로 쓸 리 토폴로지가 끝나면 이제 UV를 펴고
이 놈을 Shrink Wrap이 달리 상태로 컨트롤 C ,V 해줘서 복사 해줍니다.
현재 상태
1. 스컬프 원본
2. 2레벨
3. 리 토폴로지 한놈 (로우 폴리곤)
4. 3번 을 복사 한 놈
10. 이제 위의 4번을 가지고 좀 더 정교한 Shrink Wrap을 위해서
4번 폴리곤을 섭디바이드 해줘서 폴리곤 수를 늘려 줍니다.
11. 위의 10번의 정교한 Shrink Wrap 을 위한 소스가 필요 하겠죠.
이건 역시 생각하시는 바와 같이 위의 1번 원본 목록에서 스컬프한 최대 레벨에서
역시 똑같이 current state to object 를 해줘서 5레벨 짜리 폴리곤을 만들어 줍니다.
현재 상태
1. 스컬프 원본
2. 2레벨
3. 리 토폴로지 한 놈 (로우 폴리곤) -> Shrink Wrap 은 리토폴로지를 위해서(레벨 2단계 복제한 폴리곤을 소스로 하고 있음.)
4. 3번 을 복사 한 놈 -> 섭디바이드 되서 하이 폴리곤이 됨. -> Shrink Wrap
(하이 레벨로 쓰기 위해서 5레벨 이상의 스컬프 에서 뽑은 것을 소스로 하고 있음.)
12. 이제 4번을 현재 상태(커런스 스테이트 두 오브젝트)로 뽑아 줍니다.
그럼 아주 잘 정렬 된 상태로 UV도 섭 디바이드를 했으니 정렬 되어 있고 UV 상태로 위의 3번에서 복제 했기 때문에
같은 UV 구조를 가지게 됩니다.
이게 모든 셋팅이 끝난 것입니다.
이렇게 되면 같은 UV 구조를(정확히는 로우에서 섭디 바이드된 하이의 UV) 가지는 하이와 로우가 만들어 지게 됩니다.
그럼 이제 쉬링크 디포머 그대로 가져 오기 위해서
3번을 현재 상태로 복제하고 4번도 현재 상태로 복제 해줍니다.
그리고 이 둘을 가지고 로우에 다가 베이크 텍스쳐 태그를 붙이고 소스를 하이로 해주시면
하이 기준에서 디스플레이스 먼트 텍스쳐를 만들게 됩니다. 이 하이 기준의 텍스쳐를 로우에서
쓸 수 있는 이유는 위에서 작업한 방으로 UV 외곽 구조를 같게 만들어 줬기 때문 입니다.