위 그림으로 보아서 텍스쳐 맵핑 방식이 UV방식으로(UVW Mapping, Mesh UV) 사용되고 있는 것으로 추정됩니다.
저해상도 메쉬에 SDS(Hyper Nurbs)를 적용하면 메쉬 수가 증가하면서(저해상도 엣지 간격에 비례해 부분 부분 밀도가 달라짐) 증가된 메쉬의 형상에 따라 UV에도 변형이 일어납니다.
아래 세 방법 중 하나를 사용해 보십시오.
1. 저해상도 메쉬에서 엣지 간격을 일정하게 만들어 SDS 변형 후에도 일정한 비율이 변형이 되게 하십시오.
2. Sony 로고로 사용되는 재질의 프로젝션 방식을 C4D-Flat맵핑으로(옥테인 노드안에서 변경할 경우 Projection Node > XYZ to UVW) 바꿔서 사용해 봅니다.
3. SDS를 깨서(C키, Editable Mesh) UVW를 다시 생성하십시오.
스피커 그릴 텍스쳐링 중인데 뒷 배경 값을 어떻게 뺴야하나요??..
서페이스 디포머 관하여 질문
위 그림으로 보아서 텍스쳐 맵핑 방식이 UV방식으로(UVW Mapping, Mesh UV) 사용되고 있는 것으로 추정됩니다.
저해상도 메쉬에 SDS(Hyper Nurbs)를 적용하면 메쉬 수가 증가하면서(저해상도 엣지 간격에 비례해 부분 부분 밀도가 달라짐) 증가된 메쉬의 형상에 따라 UV에도 변형이 일어납니다.
아래 세 방법 중 하나를 사용해 보십시오.
1. 저해상도 메쉬에서 엣지 간격을 일정하게 만들어 SDS 변형 후에도 일정한 비율이 변형이 되게 하십시오.
2. Sony 로고로 사용되는 재질의 프로젝션 방식을 C4D-Flat맵핑으로(옥테인 노드안에서 변경할 경우 Projection Node > XYZ to UVW) 바꿔서 사용해 봅니다.
3. SDS를 깨서(C키, Editable Mesh) UVW를 다시 생성하십시오.